یک منبع آگاه خبری گزارش داد ایالات متحده آمریکا برای دسترسی پیدا نکردن کمپانی‌های چینی به فناوری پیشرفته معماری پردازشی، محدودیت‌های تازه‌ای را برای شرکت هلندی تولید دستگاه‌های لیتوگرافی DUV تعریف کرد تا نتواند صادراتی به کشور چین داشته باشد.
چندی پیش، کمپانی نیمه‌رسانا و تراشه‌سازی SMIC در چین توانست با همکاری هواوی تراشه ۷ نانومتری کرین 9000S را با پشتیبانی از فناوری ارتباطی 5G تولید کند؛ پس‌از انتشار این خبر به‌صورت جهانی، واکنش‌ها و بازتاب‌های فراوانی پیرامون آن در شبکه‌های اجتماعی و خبرگزاری‌ها حوزه فناوری شکل گرفت که نشان می‌داد سازندگان چینی با تحریم‌های آمریکا توانسته‌اند به خودکفایی نسبی در دستیابی به تولید تراشه 5G برسند.
براین‌اساس، ایالات متحده آمریکا به‌شدت نگران توسعه و پیشرفت چینی‌ها در دستیابی به تراشه‌های کامپیوتری و موبایلی است و قصد دارد با اعمال شدیدترین تحریم‌ها از رسیدن به فناوری موردبحث کاملا جلوگیری کند. اولین موج تحریم‌ها از سال ۲۰۱۹ میلادی شروع شد که به‌موجب آن شرکت هواوی و ZTE دیگر نتوانستند از تراشه‌های 5G برای تولید گوشی‌های هوشمند استفاده کنند؛ سپس پشتیبانی گوگل برای دستگاه‌های هواوی قطع شد و این سازنده به‌ناچار مجبور شد یک سیستم‌عامل اختصاصی با رابط کاربری بسازد و اکنون به‌عنوان سومین سیستم‌عامل بزرگ درکنار iOS و اندروید شناخته می‌شود.
باوجوداین، طی روزهای اخیر، تولید تراشه توسط SMIC و هواوی باعث شده آمریکا باجدیت بیشتری به تحریم‌های شرکت‌های چینی فکر کند. وب‌سایت خبری رویترز گزارش می‌دهد ایالات متحده آمریکا کمپانی فناوری هلندی ASML که تخصص خاصی در تولید دستگاه‌های لیتوگرافی فرابنفش عمیق (DUV) دارد را از فروش هرگونه دستگاه و ارائه خدمات به چینی‌ها منع می‌کند؛ دراین‌راستا، دستیابی شرکت‌های چینی به پردازنده‌های سیلیکونی 5G سخت‌تر می‌شود.
ماشین‌های لیتوگرافی در فرآیند تولید تراشه‌ها نقش بسیار مهمی را ایفا می‌کنند، زیرا الگوهای اصلی مدار را روی زیرلایه‌ها حک می‌کنند تا محل قرارگیری میلیاردها ترانزیستور را در یک تراشه کوچک مشخص کنند. همچنین باید یادآور شویم با افزایش تعداد ترانزیستورها روی تراشه‌ها، الگوها باریک و باریک‌تر می‌شود؛ به‌عبارتی عامیانه، این الگوها از یک رشته مو باریک‌تر و نازک‌تر هستند که توسط دستگاه‌های لیتوگرافی یا معماری پردازشی تولید می‌شوند. به‌عنوان مثال، تراشه ۳ نانومتری اپل A17 Pro که برای تولید آیفون ۱۵ پرو و آیفون ۱۵ پرو مکس تولید می‌شود شامل ۱۹ میلیارد ترانزیستور روی یک مدار بسیار کوچک هستند.
کمپانی چینی SMIC و هواوی برای اینکه بتوانند فاصله ترانزیستورها را کاهش دهد باید معماری قدرت‌مندی را روی زیرلایه‌های کوچک‌تر بسازند. دراین‌راستا، از دستگاه‌های لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) برای تولید یک تراشه ۷ نانومتری بهره بردند. همان‌طورکه پیش‌تر اشاره کردیم هرچه معماری پردازشی کوچک‌تر باشد، فاصله بین ترانزسیتورها کاهش می‌یابد، اما تعداد و قدرت‌شان افزایش می‌یابد و این همان چیزی است که گوشی‌های هوشمند پرچمدار به آن نیاز دارند.
درحال‌حاضر، تنها شرکت هلندی ASML ماشین‌های EUV را تولید می‌کند که صادرات این دستگاه‌ها به‌طورکلی به چین ممنوع شد. به‌تازگی، کمپانی ژاپنی Canon، توانسته فناوری لیتوگرافی نانوایمپرنت (NIL) را بهبود بخشد و ادعا کند این تکنولوژی میتواند با ماشین‌های فرابنفش شدید EUV برای حکاکی الگوها روی مدارهای مجمتع و زیرلایه‌ها برای تولید تراشه‌های ۵ نانومتری رقابت کند. همچنین، Canon می‌گوید با بهبود و بهینه‌سازی بیشتر میتواند از تکنولوژی یادشده برای تراشه‌های ۲ نانومتری هم استفاده کند.
روز گذشته، مدیرعامل ASML، پیتر ونیک، اعلام کرد دستگاه لیتوگرافی ASML با شماره سریال NXT:1980Di تحت قوانین صادراتی هلند قرار نمی‌گیرد؛ بنابراین، ایالات متحده آمریکا با وضع قانونی جدید صادرات آن را به چین ممنوع کرد. به گفته وی، قوانین جهانی از سال ۱۹۸۰ تحت کنترل صادراتی آمریکا قرار دارد. پیتر ونیک اشاره کرد تقاضا برای صادرات دستگاه‌های لیتوگرافی DUV به چین علم‌رغم محدود‌یت‌ها و تحریم‌ها بسیار زیاد است.
با محدودیت استفاده از NXT:1980Di برای تولید تراشه‌های پیشرفته در چین، ASML معتقد است تنها چند کمپانی تحت‌تاثیر قرار می‌گیرند. وینیک، مدیرعامل ASML، می‌گوید تنها ۱۵ درصد از فروش این کمپانی هلندی کاهش می‌یابد. علی‌رغم تغییر قوانین صادرات، وینیک انتظار دارد تجارت و صادرات به چین ادامه داشته باشد. همچنین درانتهای صحبت‌هایش اظهار کرد: «فکر نمی‌کنم امسال شاهد اوج صادرات دستگاه‌های لیتوگرافی به چین باشیم؛ درعوض چین به خودکفایی کامل دراین‌زمینه می‌رسد و دیگر نیاز به کشورهای ثالث نخواهد داشت».
اخبار مرتبط:
