یک افشاگر سرشناس اندروزیایی با انجام چندین تست و انتشار آنها نشان داد تراشه کرین 9010 هواوی از مصرف انرژی یکسانی درمقایسهبا اسنپدراگون +8 نسل1 برخوردار است، اما تقریبا از 30 درصد قدرت پردازشی کمتری بهره میبرد.
اواخر هفته گذشته، سری گوشیهای پرچمدار هواوی Pura 70 با تراشه کرین 9010 معرفی شدند که درمقایسهبا تراشه کرین 9000S از یک بهبود جزئی برخوردار هستند. باوجوداین، باید اشاره کنیم ارتقا سختافزاری همیشه بهمعنای سریعتر یا کارآمدتر شدن یک پردازنده نسبتبه سایر رقبا در بازار جهانی نیست؛ یک منبع معتبر در شبکه اجتماعی X با انتشار اطلاعاتی گفت کرین 9010 از مصرف انرژی یکسانی مانند اسنپدراگون +8 نسل 1 برخوردار است، اما قدرت پردازشی آن میگوید حدود 30 درصد عملکرد ضعیفتری خواهد داشت.
افشاگر معروف اندونزیایی، Nguyen Phi Hung، با انتشار تصاویر بنچمارک AndSPECMod اظهار کرد تراشه کرین 9010 از هستههای پردازشی نسبتا مشابهی با اسنپدراگون +8 نسل 1 بهره میبرد، اما قدرت پردازشی آن بهطور چشمگیری ضعیفتر خواهد بود. این منبع خبری برای درک بهتر، تراشه نسل جدید هواوی را با اسنپدراگون 870 مقایسه کرد و گفت کرین 9010 حدود 50 درصد مصرف انرژی بیشتری دارد، اما توان پردازشی چشمنوازی را بهنمایش نمیگذارد و تقریبا قدرت آن یکسان محاسبه میشود. باتوجهبه اطلاعات بالا، میتوان کرین 9010 هواوی را همرده پردازندههای Google Tensor قرار داد و گفت این غول چینی بهزودی میتواند از گوگل پیشی بگیرد.
علاوهبراین، باید یادآور شویم هواوی تحت تحریمهای سنگین ایالات متحده آمریکا بهسر میبرد و بهراحتی نمیتواند از پیشرفتهترین تجهیزات مانند ماشینهای لیتوگرافیEUV برای تولید پردازندهها استفاده کند. همچنین، کمپانی تایوانی TSMC نمیتواند لیتوگرافی 3 نانومتری N3E را بهدلیل همان تحریمهای ایالات متحده آمریکا به هواوی بفروشد؛ درغیراینصورت، میتوان گفت امروز هواوی بهعنوان سختترین و برترین رقیب اپل بهجای سامسونگ شناخته میشد. ازسویدیگر، هواوی با تراشهسازی SMIC برای تولید کرین 9010 همکاری میکند که با فناوری نسلهای پیشین تنها قادر به توسعه تراشههای ضعیف با معماری 7 نانومتری است.
براساس آخرین گزارشها، کمپانی SMIC برنامههای بلندمدتی برای ساخت لیتوگرافی 5 نانومتری و 3 نانومتری دارد، اما باتوجهبه قدرت پایین ماشینهای DUV این موضوع میتواند با شکست مواجه شود. برخی منابع خبری در چین میگویند تولید لیتوگرافی 5 نانومتری با ماشینهای DUV بازدهی بسیار پایین و هزینههای بسیار سنگینی دارد که حتی هواوی قادر به پرداخت آنها نخواهد بود. برهمیناساس، هواوی قصد دارد با سرمایهگذاری 1.66 میلیارد دلاری یک کارخانه تراشهسازی احداث کرده و مهندسان ارشد کمپانی ASML را بههمراه مهندسان Intel و LAM Research استخدام کند.
اخبار مرتبط: