براساس ادعای یک افشاگر، تراشه Kirin 9100 که قرار است در سری آینده Mate 70 هواوی استفاده شود، ممکن است از لیتوگرافی 5 نانومتری SMIC استفاده نکند.
SMIC، بزرگترین تولیدکننده نیمهرسانای چین، پیش از این اعلام کرده بود که بدون استفاده از تجهیزات پیشرفته EUV، موفق به توسعه لیتوگرافی 5 نانومتری شده است. باتوجه به این دستاورد، بهویژه باوجود تحریمهای تجاری آمریکا، این خبر بهعنوان یک پیشرفت بزرگ تلقی میشد و امکان استفاده هواوی از چیپستهای نسل بعدی Kirin در سری گوشیهای هوشمند آیندهاش، Mate 70، را فراهم میکرد. اما متأسفانه، یک منبع خبری این ادعاها را رد کرده و اعلام کرده است که Kirin 9100، که گفته میشود نام تراشه بعدی هواوی است، با استفاده از لیتوگرافی 5 نانومتری تولید نخواهد شد.
باتوجه بهاین شایعه، تراشه Kirin 9100 سری آینده Mate 70 هواوی احتمالاً از فرآیند تولید 7 نانومتری SMIC استفاده خواهد کرد. پیشتر اعلام شده بود که هواوی موفق به تولید آزمایشی چیپست خود در لیتوگرافی 5 نانومتری شده است. تولید آزمایشی مرحله نهایی قبل از ارسال طراحی برای تولید انبوه به کارخانه است. بااینحال، هواوی با چالشهایی از جمله استفاده از تجهیزات قدیمی برای تولید انبوه ویفرهای 5 نانومتری مواجه است. طبقگزارشها، هزینه تولید گره 5 نانومتری SMIC نسبت به TSMC تا 50 درصد بیشتر است زیرا نبود تجهیزات EUV منجربه افزایش هزینهها و کاهش بازدهی میشود.
اگر آخرین گزارشها درست باشد، نشان میدهد که هواوی و SMIC با مشکلات جدی در تولید انبوه با بازدهی مناسب در لیتوگرافی 5 نانومتری مواجه هستند و هزینههای بالای این فرآیند، استفاده از آن را برای تولید انبوه Kirin 9100 توجیهناپذیر میکند.
بهطورخلاصه، هواوی ممکن است چارهای جز استفاده از لیتوگرافی 7 نانومتری نداشته باشد که این امر فاصله فناوری آن را با رقبا بیشتر میکند. یکی از مدیران سابق این غول چینی پیشتر اعلامکردهبود که تحریمهای آمریکا مانع از دسترسی هواوی به فناوری پیشرفته 3.5 نانومتری TSMC میشود و بر اهمیت استفاده موثر از لیتوگرافی 7 نانومتری SMIC تاکید کرده بود. این اطلاعات میتواند نشاندهنده مشکلات هواوی باشد، اما امیدواریم با معرفی تراشه Kirin 9100 در اواخر سال شاهد رقابت بیشتری باشیم.