یک منبع آگاه خبری گزارش کرد کمپانی چینی SMIC به مرحله توسعه لیتوگرافی ۳ نانومتری با ماشینهای DUV نزدیک میشود که نشاندهنده خنثیسازی تحریمهای ایالات متحده آمریکا علیه این کشور محسوب میشود.
براساس گزارش وبسایت خبری Nikkei، کمپانی تراشهسازی چینی SMIC بدون توجه به مشکلات و تحریمهای ایالات متحده آمریکا قصد توسعه و ساخت لیتوگرافی پردازشی ۳ نانومتری را دارد که نشاندهنده روزافزون و فوقالعاده سریع این کمپانی چینی در حوزه نیمهرسانا است. طی سالهای اخیر، دولت آمریکا با جلوگیری از صادرات ماشینهای لیتوگرافی EUV اجازه رشد سریع را به تولیدکنندگان چینی نداد و حتی با اعمال تحریمها دسترسی کمپانی هواوی را به تراشههای 5G قطع کرد، اما اکنون ماجرا کمی فرق میکند؛ در ادامه بهجزئیات بیشتری از این خبر میپردازیم.
باتوجهبه آخرین اطلاعات دنیای فناوری، SMIC توسعه نسل دوم لیتوگرافی ۷ نانومتری را بهپایان رسانده که میتواند برای تولید گوشیهای هوشمند مورد استفاده قرار بگیرد. همچنین، شایعات تایید میکند این سازنده چینی با همکاری هواوی روی لیتوگرافی پردازشی ۵ نانومتری کار میکند که بهاحتمال زیاد برای سال آینده به بهرهبرداری میرسد، اما بازده پایین آنها میتواند هواوی را مردد کند؛ اساسا ماشینهای لیتوگرافی DUV برای نسل قدیم معماریها استفاده میشد و تقریبا برای ساخت نسل جدید کاربردی نیستند و بازدهی ویفرها فوقالعاده پایین است، اما اگر هواوی قصد تولید گوشیهای هوشمند سری P70 با تکنولوژی پیشرفتهتر را دارد، تنها گزینه آن SMIC خواهد بود.
ازسویدیگر، گزارشهای جدید نشان میدهد تیم تحقیقوتوسعه SMIC پروژه جدید تولید لیتوگرافی ۳ نانومتری را بررسی میکنند تا بتواند با استفاده از ماشینهای DUV به آن دست پیدا کند؛ البته رسیدن به چنین هدفی به تنهایی و نداشتن دانش کافی ممکن نیست. بنابراین این غول چینی قصد همکاری با مهندس ارشد لیانگ مونگ سونگ را دارد که رهبری و هدایت پروژه توسعه لیتوگرافی ۳ نانومتری را به عهده خواهد گرفت؛ این شخص سابقه حضور در TSMC و سامسونگ را دارد که بهخوبی میتوان از تجربه او برای توسعه پروژههای آینده استفاده کرد؛ باوجوداین، باید خاطرنشان کرد گاهی اوقات مغزهای متفکر نیز بدون داشتن ابزار مناسب توانایی انجام کاری را نخواهند داشت.
ازسویدیگر، باید اشاره کرد چنین خبری میتواند باعث نگرانیهای روزافزون ایالات متحده آمریکا شود، چراکه این کشور از سال ۲۰۱۹ بهصورت مستمر تلاش کرد هواوی و سایر کمپانیهای پیشرو چینی را متوقف کند، اما بهنظر میرسد تحریم نتایج برعکسی داشته و تقریبا سازندگان حوزه فناوری مانند هواوی و SMIC به خودکفایی لازم برای تولید تراشه و لیتوگرافی رسیدهاند. البته برخی نهادهای آمریکایی عنوان میکنند روند پیشرفت بسیار کند است، اما باید اشاره کنیم چینیها با ترکیبی از چالشها روی به خودکفایی آوردند که در آینده نزدیک روزهای درخشانی برای آنها درپی خواهد داشت.
علاوهبراین، وبسایت Nikkei اظهار کرد ماشینهای لیتوگرافی نوع Twinscan NXT:2000i پیشرفتهترین تکنولوژی محسوب میشود که کمپانی SMIC به آن دسترسی دارد؛ محاسبات فنی نشان میدهد این دستگاه برای تولید لیتوگرافی پردازشی با رزولوشن ۳۸ نانومتری استفاده میشود با استفاده از الگوریتم دوگانه برای تولید لیتوگرافی ۷ نانومتری توسط SMIC مورد استفاده قرار میگیرد. طبق ادعای کمپانی AML و IMEC، الگوریتم دوگانه برای تبدیل معماری ۳۲-۳۰ نانومتری به لیتوگرافی ۵ نانومتری و معماری ۲۴-۲۱ نانومتری برای لیتوگرافی ۳ نانومتری استفاده خواهد شد، اما همانطور که گفتیم بازدهی ویفرها بسیار پایین خواهد بود که با محدودیتهای ایجادشده برای هواوی گزینهای مناسب بهنظر میرسد.
کارشناسان و متخصصان براینباورند دستیابی به لیتوگرافی ۳ نانومتری برای SMIC نقطه عطفی در دنیای نیمهرسانا خواهد بود، چراکه این کمپانی با ماشینهای DUV توانسته به چنین هدف مهمی دست پیدا کند. ازسویدیگر، یادآور میشویم استفاده از الگوریتم دوگانه یا سهگانه برای رسیدن به رزولوشن بالا در تولید لیتوگرافی میتواند روی عملکرد ماشینها تاثیر منفی بگذارد و تقریبا آنها را پساز مدتزمان کوتاهی فرسوده کند. همچنین، هزینه تولید و چرخه آن بسیار بالا و غیراقتصادی برآورد میشود، اما چاره دیگری نیز برای چینیها در این برههزمانی وجود ندارد.
اخبار مرتبط:
- ایالات متحده صادرات دستگاههای لیتوگرافی ASML به چین را ممنوع کرد؛ آخرین تلاش آمریکا برای دسترسی پیدا نکردن چینیها به تراشههای پیشرفته
- کمپانی SMIC بهدنبال تولید معماری ۵ نانومتری با لیتوگرافی DUV؛ نسل بعدی تراشه هواوی کرین در راه است
- هواوی تراشه با معماری ۵ نانومتری معرفی میکند؛ احتمال توقف پروژه بهدلیل هزینههای بالا
- قرارداد تاریخی سامسونگ و ASML برای سرعت بخشیدن به پروژه معماری ۲ نانومتری؛ رقابت با TSMC ادامه دارد